Ausschreibungen

ALD-Anlage

Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.

Frist
33 Tage · 11. Aug. 2026
Auftragswert
461.344 €
Leistung
· CPV 38000000
Region
DEG03
Quelle
Unterschwelle (national)
Veröffentlicht
06. Juli 2026
Bekanntmachung
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Leistungsgegenstand

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt für die Dünnschichtabscheidung eine Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (kurz: PE-ALD, engl. Plasma enhanced atomic layer deposition) aus, welche zum Abscheiden von Dünnschichten auf unterschiedlichen Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer eingesetzt werden soll. Die zentralen Anforderungen an das System sind reproduzierbare Abscheideprozesse verschiedener leitfähiger, halbleitender und dielektrischer Schichten. Diese sollen auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen) prozessiert werden. Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, entsprechender Software-Lizenzen und aktuellem Betriebssystem (Win 11) ist mitzuliefern.

KI-Angebotsentwurf

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